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标签:EUV

一周回顾:制造，测试
通过马克LaPedus- 2022年1月7日-意见:0

本周，ASML在德国柏林的工厂发生了火灾。大火很快被扑灭，事故中无人受伤。该工厂为ASML的光刻系统生产组件，包括晶圆工作台和夹具，十字线卡盘和镜像块。火灾发生在1月3日。1月7日，ASML提供了最新消息。DUV c的制造…»阅读更多

为什么EUV掩模更昂贵的观点
通过简•威利斯- 2021年12月20日-意见:0

每片使用EUV光刻的掩模更少，但每个EUV掩模更贵。鉴于此，7月份接受调查的大多数行业知名人士(74%)表示，EUV掩模将有助于2021年掩模收入的增长，如图1所示，这也就不足为奇了。在一个20分钟的视频中，专家小组分享了他们对EUV照片驱动因素的看法…»阅读更多

光掩模的业务和技术挑战增加
通过马克LaPedus- 2021年12月16日-意见:0

专家会议:半导体工程公司坐下来讨论光学和EU万博体育matext网页V掩模问题，以及掩模业务面临的挑战，DNP研究员Naoya Hayashi;Peter Buck，西门子数字工业软件MPC和掩模缺陷管理总监;Hoya技术战略高级总监Bryan Kasprowicz;以及D2S首席执行官藤村昭。f…»阅读更多

推动EUV掩模修复的极限:使用下一代电子束掩模修复工具解决10纳米以下的缺陷
通过技术文件链接- 2021年12月7日-评论:0

“掩模修复是极紫外(EUV)掩模制造过程中必不可少的一步。它的主要挑战是不断提高分辨率和控制，以沿着EUV路线图修复掩模上不断缩小的特征尺寸。最先进的掩模修复方法是气体辅助电子束(电子束)光刻，也称为聚焦电子束。»阅读更多

利用制造数据提高可靠性
通过Ed Sperling和Ann Steffora Mutschler- 2021年12月7日-评论:0

随着芯片制造商越来越多地转向定制化和复杂的异构设计，以提高每瓦性能，他们也要求更低的缺陷和更高的产量，以帮助抵消不断上升的设计和制造成本。解决这些问题需要多个供应商共同努力。在晶圆厂和包装车间可能有数百个工艺步骤。随着特征尺寸的不断缩小，……»阅读更多

中国加快铸造、功率半器件的发展
通过马克LaPedus- 2021年11月22日-评论

中国推出了几项促进国内半导体产业发展的举措，包括在代工、氮化镓(GaN)和碳化硅(SiC)市场进行大规模的新工厂扩建活动。这个国家正在大力推进所谓的“第三代半导体”，这是一个不恰当的称呼。该术语实际上指的是两种现有的和常见的功率半导体…»阅读更多

器件和系统光刻技术的国际路线图
通过技术文件链接- 2021年11月19日-评论:0

摘要:“背景:半导体芯片性能的计划改进在历史上推动了光刻技术的改进，这预计将在未来继续下去。设备和系统国际路线图有助于行业规划未来。目标:2021年光刻技术路线图显示了未来15年的需求、可能的选择和挑战。脸上……»阅读更多

生产时间:11月16日
通过马克LaPedus- 2021年11月16日-评论:0

美国能源部(DOE)宣布了最近一项创业技术竞赛的优胜者，其中包括一种新型EUV混合抗蚀剂和抗体治疗平台的开发。这项活动被称为国家实验室加速器活动，涉及能源部国家实验室的11名研究人员之间的竞争。研究人员提出……»阅读更多

生产时间:11月2日
通过马克LaPedus- 2021年11月2日-评论:0

《微/纳米图案、材料和计量学杂志》(JM3)发表了一篇论文，概述了光刻路线图和未来15年的各种挑战。这篇被称为“设备和系统光刻路线图的国际路线图”的论文预测，极紫外(EUV)光刻和下一代版本将仍然是最重要的。»阅读更多

为什么掩码空格很重要
通过马克LaPedus- 2021年10月21日-评论:0

Hoya Group的Hoya LSI总裁Geoff Akiki与Semiconductor Engineering公司坐下来讨论光学和万博体育matext网页极紫外(EUV)光刻以及掩模坯。以下是那次讨论的节选。掩模坯料是作为掩模的基板或衬底的组件。为什么它们很重要?Akiki:如果你看看Hoya，我们一直被定位为……»阅读更多

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